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雄獅機械(xiè)常用拋光方法:機械拋光(guāng)、化學拋光、 電解拋光、超聲波拋光、流體拋光、 磁研磨(mó)拋光
1. 機械拋(pāo)光
化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較(jiào)凹部分優先溶解,從(cóng)而得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備,可以拋光形狀(zhuàng)複雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化學拋(pāo)光的(de)核心問題(tí)是拋光液的配製(zhì)。化(huà)學(xué)拋(pāo)光得到的(de)表麵粗糙度一般為數 10 μ m 。
( 1 )宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴散,材料表麵幾何粗糙下降, Ra > 1 μ m 。
( 2 )微光平整 陽極極化,表麵光亮度提高(gāo), Ra < 1 μ m 。
流體拋光是(shì)依靠高速流動的液體及(jí)其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達(dá)到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等(děng)。流體動力研磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往(wǎng)複流過工(gōng)件表麵。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質)並摻上磨料(liào)製成,磨料可采用碳化矽粉末。
6. 磁研磨拋光
磁研磨拋光(guāng)是利用磁性磨料在磁場作用下(xià)形成磨料刷,對(duì)工件磨削加工(gōng)。這種方法加工效率高,質量好,加工條件容(róng)易(yì)控製,工作條件好。采用合適的磨料,表麵粗(cū)糙度(dù)可以達到 Ra0.1 μ m 。