雄獅機械常用拋光方法（fǎ）

雄獅機械常用拋光方法：機械拋光、化學（xué）拋（pāo）光、 電解（jiě）拋光、超聲波拋光、流體拋光、 磁研磨拋光

1. 機械拋光

化學（xué）拋光是讓材料在化學介質中表麵（miàn）微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備，可以拋光形狀複雜（zá）的工（gōng）件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的（de）核心問題是拋光液的配製。化學（xué）拋光得到的表麵粗糙度一般為數 10 μ m 。

（ 1 ）宏（hóng）觀整平 溶解產物向電解液中擴散，材料表麵幾何粗糙下降， Ra ＞ 1 μ m 。

（ 2 ）微光平整 陽極極化，表麵光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。

流體（tǐ）拋光是依靠高速流動的液（yè）體及其（qí）攜帶的磨粒衝刷工件表麵（miàn）達到拋光的（de）目的。常用方法有：磨料（liào）噴射加工、液體噴射加工、流體動力（lì）研磨等（děng）。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶（dài）磨粒的（de）液體介質高速往複流過（guò）工件表（biǎo）麵。介質主要采（cǎi）用在較低壓力（lì）下流過性好的特殊化合物（wù）（聚合物狀物質）並摻上磨料製成，磨料可采用碳化（huà）矽粉末。

6. 磁研磨拋光

磁研磨拋光是利用（yòng）磁性磨料在磁場作（zuò）用下（xià）形成磨（mó）料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質量好，加工條件容易控製，工作條件好。采用合適的磨料，表麵粗（cū）糙度可（kě）以達到 Ra0.1 μ m 。